Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOI...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
Hiển thị phiên bản (1) khác
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
French, C
,
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
Định dạng:
Journal article
Được phát hành:
1989
Đang giữ
Miêu tả
Phiên bản (1) khác
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
Bằng: French, C, et al.
Được phát hành: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Bằng: Jackman, R, et al.
Được phát hành: (1986)
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
Bằng: Jackman, R, et al.
Được phát hành: (1991)
Surface studies of the interaction of Cl2 with InP(100)(4 × 2); an investigation of adsorption, thermal etching and ion beam assisted processes
Bằng: Murrell, A, et al.
Được phát hành: (1990)
SURFACE STUDIES OF THE INTERACTION OF CL-2 WITH INP(100)(4X2) - AN INVESTIGATION OF ADSORPTION, THERMAL ETCHING AND ION-BEAM ASSISTED PROCESSES
Bằng: Murrell, A, et al.
Được phát hành: (1990)