Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Castell, M, Simpson, T, Mitchell, I, Perovic, D, Baribeau, J
التنسيق: Journal article
منشور في: 1999

مواد مشابهة