Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Zobrazit další vydání (1)

Podrobná bibliografie
Hlavní autoři:	Castell, M, Simpson, T, Mitchell, I, Perovic, D, Baribeau, J
Médium:	Journal article
Vydáno:	1999

Podobné jednotky

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging
Autor: Castell, M, a další
Vydáno: (1999)

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon: dopant mapping through secondary electron imaging
Autor: Castell, M, a další
Vydáno: (1999)

Kinetics of the permanent deactivation of the boron-oxygen complex in crystalline silicon as a function of illumination intensity
Autor: Verena Steckenreiter, a další
Vydáno: (2017-03-01)

Plasma immersion ion implantation of boron for ribbon silicon solar cells
Autor: Derbouz K., a další
Vydáno: (2013-09-01)

The Modeling of the Radiation Enhanced Diffusion of Boron in Silicon
Autor: Gadiyak, G.V., a další
Vydáno: (1994-06-01)

Argon Precursor Ion Implantation Used to Activate Boron Atoms in Silicon at Low Temperatures
Autor: Toshiyuki Sameshima, a další
Vydáno: (2020-01-01)

Electronic contribution to secondary electron compositional contrast in the scanning electron microscope
Autor: Castell, M, a další
Vydáno: (1997)

Deactivation of metastable single-crystal silicon hyperdoped with sulfur
Autor: Krich, Jacob J., a další
Vydáno: (2015)

Synthesis and Modification of Boron Nitride nanotubes using ion implantation
Autor: L.I. Lisema, a další
Vydáno: (2024-07-01)

Aging Processes in Films of Iron-Yttrium Garnet Implanted by Boron Ions
Autor: I. P. Yaremiy, a další
Vydáno: (2019-04-01)

THE ELASTIC PROPERTIES OF ION-IMPLANTED SILICON
Autor: Burnett, P, a další
Vydáno: (1986)

Ion implantation in semiconductors : silicon and germanium/
Autor: Mayer, James W., 1930-, a další
Vydáno: (1970)

Mechanical and Structural Properties of Fluorine-Ion-Implanted Boron Suboxide
Autor: Ronald Machaka, a další
Vydáno: (2012-01-01)

MODEL OF BORON CLUSTERING IN SILICON
Autor: O. I. Velichko
Vydáno: (2019-06-01)

Modelling of cylinder deactivation engine [electronic resource] /
Autor: Mohd. Fadziel Mohamad Nor, 1992-, a další
Vydáno: (2015)

Ultrafast Electronic Deactivation Dynamics of Xanthosine Monophosphate
Autor: Katharina Röttger, a další
Vydáno: (2017-01-01)

Hydrides of boron and silicon/
Autor: 206407 Stock, Alfred Eduard
Vydáno: (1933)

Quantitative imaging of semiconductor doping distributions using a scanning electron microscope
Autor: Perovic, D, a další
Vydáno: (1998)

Silicon technologies : ion implantation and thermal treatments /
Autor: Baudrant, Annie
Vydáno: (2011)

Nanoclustering in Silicon Induced by Oxygen Ions Implanted
Autor: D. Manno, a další
Vydáno: (2011-11-01)

Deactivation of catalysts/
Autor: 312802 Hughes, R.
Vydáno: (1984)

Catalyst deactivation/
Autor: Petersen, Eugene E., a další
Vydáno: (1987)

Catalyst deactivation/
Autor: Delmon, Bernard, a další
Vydáno: (1980)

{111} and {311} rod-like defects in silicon ion implanted silicon
Autor: Chou, C, a další
Vydáno: (1996)

{111} defects in 1-MeV-silicon-ion-implanted silicon.
Autor: Chou, C, a další
Vydáno: (1995)

Combined structural and functional imaging reveals cortical deactivations in grapheme-colour synaesthesia
Autor: Erik eO'Hanlon, a další
Vydáno: (2013-10-01)

The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
Autor: Małgorzata Kalisz, a další
Vydáno: (2023-06-01)

Enhancing Hydrogen Diffusion in Silica Matrix by Using Metal Ion Implantation to Improve the Emission Properties of Silicon Nanocrystals
Autor: J. Bornacelli, a další
Vydáno: (2014-01-01)

Evaluation of a clinical method for selective electrode deactivation in cochlear implant programming
Autor: Sarah E. Warren, a další
Vydáno: (2023-03-01)

Patient perceptions of implantable cardioverter-defibrillator deactivation discussions: A qualitative study
Autor: Jane MacIver, a další
Vydáno: (2016-04-01)

Postural stability at activation and deactivation of the cochlear implant in adolescents with late lateral implantations: a quasi-experiment
Autor: Anna Zwierzchowska, a další
Vydáno: (2024-07-01)

Turning the optical properties of microcrystalline diamond films by boron ion implantation and annealing
Autor: Dan Dai, a další
Vydáno: (2024-12-01)

Ion implantation in silicon to facilitate testing of photonic circuits
Autor: Reed, Graham T., a další
Vydáno: (2019)

Ion-implantation and analysis for doped silicon slot waveguides
Autor: McCallum J. C., a další
Vydáno: (2012-10-01)

Influence of Boron Diffusion on Photovoltaic Parameters of n+-p-p+ Silicone Structures and Based Photodetectors
Autor: Mykola S. Kukurudziak, a další
Vydáno: (2024-11-01)

Room-temperature near-infrared electroluminescence from boron-diffused silicon pn junction diodes
Autor: Si eLi, a další
Vydáno: (2015-02-01)

Catalyst deactivation : 1991/
Autor: Bartholomew, Calvin H., a další
Vydáno: (1991)

Deactivation and poisoning of catalysts/
Autor: Oudar, Jacques, a další
Vydáno: (1985)

Interpreting deactivations in neuroimaging
Autor: Dave J Hayes, a další
Vydáno: (2012-02-01)

A new approach in deactivation analysis : effects of coke loading on diffusivity and acidic properties /
Autor: Abdul Rahman Songip