Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Toon andere (1) versies

Bibliografische gegevens
Hoofdauteurs:	Castell, M, Simpson, T, Mitchell, I, Perovic, D, Baribeau, J
Formaat:	Journal article
Gepubliceerd in:	1999

Gelijkaardige items

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging
door: Castell, M, et al.
Gepubliceerd in: (1999)

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon: dopant mapping through secondary electron imaging
door: Castell, M, et al.
Gepubliceerd in: (1999)

Kinetics of the permanent deactivation of the boron-oxygen complex in crystalline silicon as a function of illumination intensity
door: Verena Steckenreiter, et al.
Gepubliceerd in: (2017-03-01)

Plasma immersion ion implantation of boron for ribbon silicon solar cells
door: Derbouz K., et al.
Gepubliceerd in: (2013-09-01)

The Modeling of the Radiation Enhanced Diffusion of Boron in Silicon
door: Gadiyak, G.V., et al.
Gepubliceerd in: (1994-06-01)

Argon Precursor Ion Implantation Used to Activate Boron Atoms in Silicon at Low Temperatures
door: Toshiyuki Sameshima, et al.
Gepubliceerd in: (2020-01-01)

Electronic contribution to secondary electron compositional contrast in the scanning electron microscope
door: Castell, M, et al.
Gepubliceerd in: (1997)

Deactivation of metastable single-crystal silicon hyperdoped with sulfur
door: Krich, Jacob J., et al.
Gepubliceerd in: (2015)

Synthesis and Modification of Boron Nitride nanotubes using ion implantation
door: L.I. Lisema, et al.
Gepubliceerd in: (2024-07-01)

Aging Processes in Films of Iron-Yttrium Garnet Implanted by Boron Ions
door: I. P. Yaremiy, et al.
Gepubliceerd in: (2019-04-01)

THE ELASTIC PROPERTIES OF ION-IMPLANTED SILICON
door: Burnett, P, et al.
Gepubliceerd in: (1986)

Ion implantation in semiconductors : silicon and germanium/
door: Mayer, James W., 1930-, et al.
Gepubliceerd in: (1970)

Mechanical and Structural Properties of Fluorine-Ion-Implanted Boron Suboxide
door: Ronald Machaka, et al.
Gepubliceerd in: (2012-01-01)

MODEL OF BORON CLUSTERING IN SILICON
door: O. I. Velichko
Gepubliceerd in: (2019-06-01)

Modelling of cylinder deactivation engine [electronic resource] /
door: Mohd. Fadziel Mohamad Nor, 1992-, et al.
Gepubliceerd in: (2015)

Ultrafast Electronic Deactivation Dynamics of Xanthosine Monophosphate
door: Katharina Röttger, et al.
Gepubliceerd in: (2017-01-01)

Hydrides of boron and silicon/
door: 206407 Stock, Alfred Eduard
Gepubliceerd in: (1933)

Quantitative imaging of semiconductor doping distributions using a scanning electron microscope
door: Perovic, D, et al.
Gepubliceerd in: (1998)

Silicon technologies : ion implantation and thermal treatments /
door: Baudrant, Annie
Gepubliceerd in: (2011)

Nanoclustering in Silicon Induced by Oxygen Ions Implanted
door: D. Manno, et al.
Gepubliceerd in: (2011-11-01)

Deactivation of catalysts/
door: 312802 Hughes, R.
Gepubliceerd in: (1984)

Catalyst deactivation/
door: Petersen, Eugene E., et al.
Gepubliceerd in: (1987)

Catalyst deactivation/
door: Delmon, Bernard, et al.
Gepubliceerd in: (1980)

{111} and {311} rod-like defects in silicon ion implanted silicon
door: Chou, C, et al.
Gepubliceerd in: (1996)

{111} defects in 1-MeV-silicon-ion-implanted silicon.
door: Chou, C, et al.
Gepubliceerd in: (1995)

Combined structural and functional imaging reveals cortical deactivations in grapheme-colour synaesthesia
door: Erik eO'Hanlon, et al.
Gepubliceerd in: (2013-10-01)

The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
door: Małgorzata Kalisz, et al.
Gepubliceerd in: (2023-06-01)

Enhancing Hydrogen Diffusion in Silica Matrix by Using Metal Ion Implantation to Improve the Emission Properties of Silicon Nanocrystals
door: J. Bornacelli, et al.
Gepubliceerd in: (2014-01-01)

Evaluation of a clinical method for selective electrode deactivation in cochlear implant programming
door: Sarah E. Warren, et al.
Gepubliceerd in: (2023-03-01)

Patient perceptions of implantable cardioverter-defibrillator deactivation discussions: A qualitative study
door: Jane MacIver, et al.
Gepubliceerd in: (2016-04-01)

Postural stability at activation and deactivation of the cochlear implant in adolescents with late lateral implantations: a quasi-experiment
door: Anna Zwierzchowska, et al.
Gepubliceerd in: (2024-07-01)

Turning the optical properties of microcrystalline diamond films by boron ion implantation and annealing
door: Dan Dai, et al.
Gepubliceerd in: (2024-12-01)

Ion implantation in silicon to facilitate testing of photonic circuits
door: Reed, Graham T., et al.
Gepubliceerd in: (2019)

Ion-implantation and analysis for doped silicon slot waveguides
door: McCallum J. C., et al.
Gepubliceerd in: (2012-10-01)

Influence of Boron Diffusion on Photovoltaic Parameters of n+-p-p+ Silicone Structures and Based Photodetectors
door: Mykola S. Kukurudziak, et al.
Gepubliceerd in: (2024-11-01)

Room-temperature near-infrared electroluminescence from boron-diffused silicon pn junction diodes
door: Si eLi, et al.
Gepubliceerd in: (2015-02-01)

Catalyst deactivation : 1991/
door: Bartholomew, Calvin H., et al.
Gepubliceerd in: (1991)

Deactivation and poisoning of catalysts/
door: Oudar, Jacques, et al.
Gepubliceerd in: (1985)

Interpreting deactivations in neuroimaging
door: Dave J Hayes, et al.
Gepubliceerd in: (2012-02-01)

A new approach in deactivation analysis : effects of coke loading on diffusivity and acidic properties /
door: Abdul Rahman Songip