Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging

Hiển thị phiên bản (1) khác

Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:	Castell, M, Simpson, T, Mitchell, I, Perovic, D, Baribeau, J
Định dạng:	Journal article
Được phát hành:	1999

Những quyển sách tương tự

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon studied by secondary electron imaging
Bằng: Castell, M, et al.
Được phát hành: (1999)

Deactivation and diffusion of boron in ion-implanted silicon: dopant mapping through secondary electron imaging
Bằng: Castell, M, et al.
Được phát hành: (1999)

Kinetics of the permanent deactivation of the boron-oxygen complex in crystalline silicon as a function of illumination intensity
Bằng: Verena Steckenreiter, et al.
Được phát hành: (2017-03-01)

Plasma immersion ion implantation of boron for ribbon silicon solar cells
Bằng: Derbouz K., et al.
Được phát hành: (2013-09-01)

The Modeling of the Radiation Enhanced Diffusion of Boron in Silicon
Bằng: Gadiyak, G.V., et al.
Được phát hành: (1994-06-01)

Argon Precursor Ion Implantation Used to Activate Boron Atoms in Silicon at Low Temperatures
Bằng: Toshiyuki Sameshima, et al.
Được phát hành: (2020-01-01)

Electronic contribution to secondary electron compositional contrast in the scanning electron microscope
Bằng: Castell, M, et al.
Được phát hành: (1997)

Deactivation of metastable single-crystal silicon hyperdoped with sulfur
Bằng: Krich, Jacob J., et al.
Được phát hành: (2015)

Synthesis and Modification of Boron Nitride nanotubes using ion implantation
Bằng: L.I. Lisema, et al.
Được phát hành: (2024-07-01)

Aging Processes in Films of Iron-Yttrium Garnet Implanted by Boron Ions
Bằng: I. P. Yaremiy, et al.
Được phát hành: (2019-04-01)

THE ELASTIC PROPERTIES OF ION-IMPLANTED SILICON
Bằng: Burnett, P, et al.
Được phát hành: (1986)

Ion implantation in semiconductors : silicon and germanium/
Bằng: Mayer, James W., 1930-, et al.
Được phát hành: (1970)

Mechanical and Structural Properties of Fluorine-Ion-Implanted Boron Suboxide
Bằng: Ronald Machaka, et al.
Được phát hành: (2012-01-01)

MODEL OF BORON CLUSTERING IN SILICON
Bằng: O. I. Velichko
Được phát hành: (2019-06-01)

Modelling of cylinder deactivation engine [electronic resource] /
Bằng: Mohd. Fadziel Mohamad Nor, 1992-, et al.
Được phát hành: (2015)

Ultrafast Electronic Deactivation Dynamics of Xanthosine Monophosphate
Bằng: Katharina Röttger, et al.
Được phát hành: (2017-01-01)

Hydrides of boron and silicon/
Bằng: 206407 Stock, Alfred Eduard
Được phát hành: (1933)

Quantitative imaging of semiconductor doping distributions using a scanning electron microscope
Bằng: Perovic, D, et al.
Được phát hành: (1998)

Silicon technologies : ion implantation and thermal treatments /
Bằng: Baudrant, Annie
Được phát hành: (2011)

Nanoclustering in Silicon Induced by Oxygen Ions Implanted
Bằng: D. Manno, et al.
Được phát hành: (2011-11-01)

Deactivation of catalysts/
Bằng: 312802 Hughes, R.
Được phát hành: (1984)

Catalyst deactivation/
Bằng: Petersen, Eugene E., et al.
Được phát hành: (1987)

Catalyst deactivation/
Bằng: Delmon, Bernard, et al.
Được phát hành: (1980)

{111} and {311} rod-like defects in silicon ion implanted silicon
Bằng: Chou, C, et al.
Được phát hành: (1996)

{111} defects in 1-MeV-silicon-ion-implanted silicon.
Bằng: Chou, C, et al.
Được phát hành: (1995)

Combined structural and functional imaging reveals cortical deactivations in grapheme-colour synaesthesia
Bằng: Erik eO'Hanlon, et al.
Được phát hành: (2013-10-01)

The role of fluorine-containing ultra-thin layer in controlling boron thermal diffusion into silicon
Bằng: Małgorzata Kalisz, et al.
Được phát hành: (2023-06-01)

Enhancing Hydrogen Diffusion in Silica Matrix by Using Metal Ion Implantation to Improve the Emission Properties of Silicon Nanocrystals
Bằng: J. Bornacelli, et al.
Được phát hành: (2014-01-01)

Evaluation of a clinical method for selective electrode deactivation in cochlear implant programming
Bằng: Sarah E. Warren, et al.
Được phát hành: (2023-03-01)

Patient perceptions of implantable cardioverter-defibrillator deactivation discussions: A qualitative study
Bằng: Jane MacIver, et al.
Được phát hành: (2016-04-01)

Postural stability at activation and deactivation of the cochlear implant in adolescents with late lateral implantations: a quasi-experiment
Bằng: Anna Zwierzchowska, et al.
Được phát hành: (2024-07-01)

Turning the optical properties of microcrystalline diamond films by boron ion implantation and annealing
Bằng: Dan Dai, et al.
Được phát hành: (2024-12-01)

Ion implantation in silicon to facilitate testing of photonic circuits
Bằng: Reed, Graham T., et al.
Được phát hành: (2019)

Ion-implantation and analysis for doped silicon slot waveguides
Bằng: McCallum J. C., et al.
Được phát hành: (2012-10-01)

Influence of Boron Diffusion on Photovoltaic Parameters of n+-p-p+ Silicone Structures and Based Photodetectors
Bằng: Mykola S. Kukurudziak, et al.
Được phát hành: (2024-11-01)

Room-temperature near-infrared electroluminescence from boron-diffused silicon pn junction diodes
Bằng: Si eLi, et al.
Được phát hành: (2015-02-01)

Catalyst deactivation : 1991/
Bằng: Bartholomew, Calvin H., et al.
Được phát hành: (1991)

Deactivation and poisoning of catalysts/
Bằng: Oudar, Jacques, et al.
Được phát hành: (1985)

Interpreting deactivations in neuroimaging
Bằng: Dave J Hayes, et al.
Được phát hành: (2012-02-01)

A new approach in deactivation analysis : effects of coke loading on diffusivity and acidic properties /
Bằng: Abdul Rahman Songip