İçeriği atla
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Dil
Tüm Alanlar
Materyal Adı
Yazar
Konu
Yer Numarası
ISBN/ISSN
Etiket
Ara
Gelişmiş
REACTION-MECHANISMS FOR THE PH...
Alıntıla
Telefona gönder
E-posta Gönder
Yazdır
Kaydı İhraç Et
İhraç Et RefWorks
İhraç Et EndNoteWeb
İhraç Et EndNote
Kalıcı bağlantı
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Detaylı Bibliyografya
Asıl Yazarlar:
Jackman, R
,
Ebert, H
,
Foord, J
Materyal Türü:
Journal article
Baskı/Yayın Bilgisi:
1986
Erişim Bilgileri
Diğer Bilgiler
Benzer Materyaller
MARC Görünümü
Diğer Bilgiler
Özet:
Benzer Materyaller
THE INTERACTION OF WF6 WITH SI(100) - THERMAL AND PHOTON INDUCED REACTIONS
Yazar:: Jackman, R, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1988)
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
Yazar:: French, C, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989)
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
Yazar:: French, C, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989)
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
Yazar:: Jackman, R, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1991)
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
Yazar:: Murrell, A, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989)