REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)

REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)

מידע ביבליוגרפי
Main Authors:	Jackman, R, Ebert, H, Foord, J
פורמט:	Journal article
יצא לאור:	1986

פריטים דומים

THE INTERACTION OF WF6 WITH SI(100) - THERMAL AND PHOTON INDUCED REACTIONS
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1988)

ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
מאת: French, C, et al.
יצא לאור: (1989)

Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
מאת: French, C, et al.
יצא לאור: (1989)

CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1991)

THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1989)

SEMICONDUCTOR SURFACE ETCHING BY HALOGENS - FUNDAMENTAL STEPS
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1989)

Semiconductor surface etching by halogens: Fundamental steps
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1989)

Thermal and ion-beam-induced etching of InP with chlorine
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1989)

INVESTIGATIONS OF THE THERMAL-REACTIONS OF CHLORINE ON THE GAAS(100) SURFACE
מאת: French, C, et al.
יצא לאור: (1991)

THE INTERACTION OF AZOMETHANE WITH SI(100)
מאת: Loh, K, et al.
יצא לאור: (1995)

ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1986)

THE INTERACTION OF ATOMIC-HYDROGEN WITH ADSORBED ETHYLENE AND ACETYLENE ON SI(100)
מאת: Chua, L, et al.
יצא לאור: (1994)

Surface spectroscopic and molecular beam studies of the reactions of trimethylaluminium on Si(100)
מאת: Wee, A, et al.
יצא לאור: (1989)

SURFACE SPECTROSCOPIC AND MOLECULAR-BEAM STUDIES OF THE REACTIONS OF TRIMETHYLALUMINUM ON SI(100)
מאת: Wee, A, et al.
יצא לאור: (1989)

Surface studies of the interaction of Cl2 with InP(100)(4 × 2); an investigation of adsorption, thermal etching and ion beam assisted processes
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1990)

SURFACE STUDIES OF THE INTERACTION OF CL-2 WITH INP(100)(4X2) - AN INVESTIGATION OF ADSORPTION, THERMAL ETCHING AND ION-BEAM ASSISTED PROCESSES
מאת: Murrell, A, et al.
יצא לאור: (1990)

Etching reactions of C2H5I on GaAs(100)
מאת: Singh, N, et al.
יצא לאור: (1998)

STUDIES OF ADSORPTION AND ELECTRON-INDUCED DISSOCIATION OF FE(CO)5 ON SI(100)
מאת: Foord, J, et al.
יצא לאור: (1986)

THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1989)

SURFACE SPECTROSCOPIC STUDIES OF THE INITIAL-STAGES OF DIAMOND GROWTH ON SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1993)

THE INITIAL-STAGES OF DIAMOND GROWTH - AN ADSORPTION STUDY OF HOT-FILAMENT ACTIVATED METHANE AND HYDROGEN ON SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1993)

SURFACE-SCIENCE INVESTIGATIONS OF THE METALLIZATION OF SEMICONDUCTORS BY PHOTOCHEMICAL DEPOSITION AND RELATED TECHNIQUES
מאת: Foord, J, et al.
יצא לאור: (1986)

A STRUCTURAL AND KINETIC-STUDY OF CHLORINE CHEMISORPTION AND SURFACE CHLORIDE FORMATION ON CR(100)
מאת: Foord, J, et al.
יצא לאור: (1982)

Understanding the chemistry of low temperature diamond growth: an investigation into the interaction of chlorine and atomic hydrogen at CVD diamond surfaces
מאת: Proffitt, S, et al.
יצא לאור: (2000)

Plasma etching in semiconductor fabrication /
מאת: 217469 Morgan, Russ A.
יצא לאור: (1985)

Etching: The Art of Semiconductor Micromachining
מאת: Lucia Romano
יצא לאור: (2025-02-01)

Characterization of plasma etching for semiconductor applications /
מאת: 451936 Kumar, Rakesh, et al.

Fabrication of SiO2-based microcantilevers by anisotropic chemical etching of (100) single crystal Si
מאת: VESNA JOVIC, et al.
יצא לאור: (2007-11-01)

Enhanced etching characteristics of Si{100} in NaOH-based two-component solution
מאת: V. Swarnalatha, et al.
יצא לאור: (2022-08-01)

Mechanism and dynamics of the reaction of XeF2 with fluorinated Si(100): Possible role of gas phase dissociation of a surface reaction product in plasmaless etching
מאת: Hefty, Robert C., et al.
יצא לאור: (2011)

Interaction of chlorine with nickel (110) studied by scanning tunnelling microscopy
מאת: Fishlock, T, et al.
יצא לאור: (1997)

Interaction of chlorine with nickel (110) studied by scanning tunnelling microscopy
מאת: Fishlock, T, et al.
יצא לאור: (1997)

Deciphering the degradation of sulfonamides by UV/chlorination in aqueous solution: kinetics, reaction pathways, and toxicological evolution
מאת: Shah Bano, et al.
יצא לאור: (2024-01-01)

Studies of the chemistry of plasmas used for semiconductor etching
מאת: Toogood, M, et al.
יצא לאור: (1991)

Patterning two‐dimensional semiconductors with thermal etching
מאת: Miaomiao Liu, et al.
יצא לאור: (2023-11-01)

The virus removal in UV irradiation, ozonation and chlorination
מאת: Jiayang Kong, et al.
יצא לאור: (2021-01-01)

Chlorine Dioxide-Iodide-Methyl Acetoacetate Oscillation Reaction Investigated by UV-Vis and Online FTIR Spectrophotometric Method
מאת: Laishun Shi, et al.
יצא לאור: (2012-01-01)

Fabrication of Sio2-based microcantilevers by anisotropic chemical etching of (100) single crystal Si
מאת: Jović Vesna, et al.
יצא לאור: (2007-01-01)

Investigation of material removal characteristics of Si (100) wafer during linear field atmospheric-pressure plasma etching
מאת: Weijia Guo, et al.
יצא לאור: (2020-12-01)

Degradation of chlorinated benzaldehydes in aqueous solutions by UV-irradiation
מאת: Miray Bekbölet, et al.
יצא לאור: (2002-01-01)