REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
Asıl Yazarlar: | Jackman, R, Ebert, H, Foord, J |
---|---|
Materyal Türü: | Journal article |
Baskı/Yayın Bilgisi: |
1986
|
Benzer Materyaller
-
THE INTERACTION OF WF6 WITH SI(100) - THERMAL AND PHOTON INDUCED REACTIONS
Yazar:: Jackman, R, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1988) -
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
Yazar:: French, C, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989) -
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
Yazar:: French, C, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989) -
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
Yazar:: Jackman, R, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1991) -
THERMAL AND ION-BEAM-INDUCED ETCHING OF INP WITH CHLORINE
Yazar:: Murrell, A, ve diğerleri
Baskı/Yayın Bilgisi: (1989)