Anar al contingut
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Idioma
Tots els camps
Títol
Autor
Matèria
Signatura
ISBN/ISSN
Etiqueta
Trobar
Avançada
Residual stress measurement in...
Citar
Enviar aquest missatge de text
Enviar per correu electrònic aquest
Imprimir
Exportar registre
Exportar a RefWorks
Exportar a EndNoteWeb
Exportar a EndNote
Enllaç permanent
Residual stress measurement in thin films at sub-micron scale using Focused Ion Beam milling and imaging
Veure altres versions (1)
Dades bibliogràfiques
Autors principals:
Song, X
,
Yeap, K
,
Zhu, J
,
Belnoue, J
,
Sebastiani, M
,
Bemporad, E
,
Zeng, K
,
Korsunsky, A
Format:
Journal article
Publicat:
2012
Fons
Descripció
Altra versió (1)
Ítems similars
Visualització del personal
Descripció
Sumari:
Ítems similars
Residual stress measurement in thin films at sub-micron scale using Focused Ion Beam milling and imaging
per: Song, X, et al.
Publicat: (2012)
Residual stress measurement in thin films using the semi-destructive ring-core drilling method using Focused Ion Beam
per: Song, X, et al.
Publicat: (2011)
Focused ion beam four-slot milling for Poisson's ratio and residual stress evaluation at the micron scale
per: Sebastiani, M, et al.
Publicat: (2014)
Focused ion beam four-slot milling for Poisson's ratio and residual stress evaluation at the micron scale
per: Sebastiani, M, et al.
Publicat: (2014)
Focused ion beam ring drilling for residual stress evaluation
per: Korsunsky, A, et al.
Publicat: (2009)