Przejdź do treści
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Język
Wszystkie pola
Tytuł
Autor
Hasło przedmiotowe
Sygnatura
ISBN / ISSN
Etykieta
Szukaj
Wyszukiwanie zaawansowane
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMI...
Cytować
Wyślij wiadomość
Wyślij emailem
Drukuj
Eksportuj rekord
Eksportuj do RefWorks
Eksportuj do EndNoteWeb
Eksportuj do EndNote
Odnośnik bezpośredni
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Opis bibliograficzny
Główni autorzy:
Jackman, R
,
Foord, J
Format:
Journal article
Wydane:
1986
Egzemplarz
Opis
Podobne zapisy
Wersja MARC
Opis
Streszczenie:
Podobne zapisy
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
od: Jackman, R, i wsp.
Wydane: (1989)
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
od: Foord, J, i wsp.
Wydane: (1984)
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
od: Jackman, R, i wsp.
Wydane: (1986)
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
od: 439284 Schmitz, John E. J.
Wydane: (1992)
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
od: Jackman, R, i wsp.
Wydane: (1995)