ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
المؤلفون الرئيسيون: | Jackman, R, Foord, J |
---|---|
التنسيق: | Journal article |
منشور في: |
1986
|
مواد مشابهة
-
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
حسب: Jackman, R, وآخرون
منشور في: (1989) -
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
حسب: Foord, J, وآخرون
منشور في: (1984) -
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
حسب: Jackman, R, وآخرون
منشور في: (1986) -
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
حسب: 439284 Schmitz, John E. J.
منشور في: (1992) -
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
حسب: Jackman, R, وآخرون
منشور في: (1995)