ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Main Authors: | Jackman, R, Foord, J |
---|---|
פורמט: | Journal article |
יצא לאור: |
1986
|
פריטים דומים
-
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1989) -
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
מאת: Foord, J, et al.
יצא לאור: (1984) -
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1986) -
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
מאת: 439284 Schmitz, John E. J.
יצא לאור: (1992) -
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
מאת: Jackman, R, et al.
יצא לאור: (1995)