Joan edukira
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文（繁體）
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Hizkuntza
Eremu guztiak
Izenburua
Egilea
Gaia
Sailkapena
ISBN/ISSN
Etiketa
Bilatu
Aurreratua
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMI...
Erreferentzia bihurtu
SMS
Bidali
Imprimir
Erregistroa esportatu
Nora RefWorks
Nora EndNoteWeb
Nora EndNote
Permanent link
ELECTRON-BEAM STIMULATED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED TUNGSTEN FILMS ON SI(100)
Xehetasun bibliografikoak
Egile Nagusiak:
Jackman, R
,
Foord, J
Formatua:
Journal article
Argitaratua:
1986
Aleari buruzko argibideak
Deskribapena
Antzeko izenburuak
MARC erregistroa
Antzeko izenburuak
THERMAL AND PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF FE FROM FE(CO)5 ON SI(100)
nork: Jackman, R, et al.
Argitaratua: (1989)
CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION ON SILICON - INSITU SURFACE STUDIES
nork: Foord, J, et al.
Argitaratua: (1984)
LASER CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF PATTERNED FE ON SILICA GLASS - OBSERVATION AND ORIGINS OF PERIODIC RIPPLE STRUCTURES
nork: Jackman, R, et al.
Argitaratua: (1986)
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides : for VLSI/ULSI applications
nork: 439284 Schmitz, John E. J.
Argitaratua: (1992)
DIAMOND CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION FROM A CAPACITIVELY COUPLED RADIO-FREQUENCY PLASMA
nork: Jackman, R, et al.
Argitaratua: (1995)