Preskoči na sadržaj
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Jezik
Sva polja
Naslov
Autor
Tema
Signatura
ISBN/ISSN
Oznaka
Pronađi
Napredno
Electrical and structural anal...
Citiraj ovo
Pošalji tekstualnu poruku
Pošalji ovo e-mailom
Ispiši
Izvezi zapis
Izvezi u RefWorks
Izvezi u EndNoteWeb
Izvezi u EndNote
Stalna poveznica
Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Bibliografski detalji
Glavni autori:
Zolper, J
,
Tan, H
,
Williams, J
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Pearton, S
,
Crawford, M
,
Karlicek, R
Format:
Journal article
Izdano:
1997
Primjerci
Opis
Slični predmeti
Prikaz za djelatnike knjižnice
Slični predmeti
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
od: Zou, J, i dr.
Izdano: (1998)
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
od: Tan, H, i dr.
Izdano: (1996)
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
od: Tan, H, i dr.
Izdano: (1996)
Annealing of ion implanted gallium nitride
od: Tan, H, i dr.
Izdano: (1998)
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
od: Justinas Jorudas, i dr.
Izdano: (2020-12-01)