Ga door naar de inhoud
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Taal
Alle velden
Titel
Auteur
Onderwerp
Plaatsingsnummer
ISBN/ISSN
Tag
Zoek
Geavanceerd
Electrical and structural anal...
Citeren
SMS dit
Versturen
Afdrukken
Exporteer Record
Exporteer naar RefWorks
Exporteer naar EndNoteWeb
Exporteer naar EndNote
Permalink
Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Bibliografische gegevens
Hoofdauteurs:
Zolper, J
,
Tan, H
,
Williams, J
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Pearton, S
,
Crawford, M
,
Karlicek, R
Formaat:
Journal article
Gepubliceerd in:
1997
Exemplaren
Omschrijving
Gelijkaardige items
Personeel
Gelijkaardige items
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
door: Zou, J, et al.
Gepubliceerd in: (1998)
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
door: Tan, H, et al.
Gepubliceerd in: (1996)
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
door: Tan, H, et al.
Gepubliceerd in: (1996)
Annealing of ion implanted gallium nitride
door: Tan, H, et al.
Gepubliceerd in: (1998)
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
door: Justinas Jorudas, et al.
Gepubliceerd in: (2020-12-01)