Chuyển đến nội dung
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
Ngôn ngữ
Tất cả các trường
Tiêu đề
Tác giả
Chủ đề
Số hiệu
số ISBN/ISSN
Nhãn
Tìm kiếm
Nâng cao
Electrical and structural anal...
Trích dẫn điều này
Văn bản này
Email này
In
Xuất bản ghi
Xuất tới RefWorks
Xuất tới EndNoteWeb
Xuất tới EndNote
Liên kết dài hạn
Electrical and structural analysis of high-dose Si implantation in GaN
Chi tiết về thư mục
Những tác giả chính:
Zolper, J
,
Tan, H
,
Williams, J
,
Zou, J
,
Cockayne, D
,
Pearton, S
,
Crawford, M
,
Karlicek, R
Định dạng:
Journal article
Được phát hành:
1997
Đang giữ
Miêu tả
Những quyển sách tương tự
Chế độ xem nhân viên
Những quyển sách tương tự
TEM investigations of Si ion-implanted GaN
Bằng: Zou, J, et al.
Được phát hành: (1998)
Damage to epitaxial GaN layers by silicon implantation
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1996)
Ion implantation processing of GaN epitaxial layers
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1996)
Annealing of ion implanted gallium nitride
Bằng: Tan, H, et al.
Được phát hành: (1998)
AlGaN/GaN on SiC Devices without a GaN Buffer Layer: Electrical and Noise Characteristics
Bằng: Justinas Jorudas, et al.
Được phát hành: (2020-12-01)