تخطي إلى المحتوى
VuFind
English
Deutsch
Español
Français
Italiano
日本語
Nederlands
Português
Português (Brasil)
中文(简体)
中文(繁體)
Türkçe
עברית
Gaeilge
Cymraeg
Ελληνικά
Català
Euskara
Русский
Čeština
Suomi
Svenska
polski
Dansk
slovenščina
اللغة العربية
বাংলা
Galego
Tiếng Việt
Hrvatski
हिंदी
Հայերէն
Українська
Sámegiella
Монгол
اللغة
كل الحقول
العنوان
المؤلف
الموضوع
رقم الاستدعاء
ردمك/تدمد
الوسم
ابحث
بحث متقدم
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOI...
استشهد بهذا
أرسل هذا في رسالة قصيرة
أرسل هذا بالبريد الإلكتروني
طباعة
تصدير التسجيلة
تصدير إلى RefWorks
تصدير إلى EndNoteWeb
تصدير إلى EndNote
رابط دائم
ADSORPTION, ETCHING AND PHOTOINDUCED REACTIONS AT THE SI(100)-CCL4 INTERFACE
عرض إصدارات أخرى (1)
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:
French, C
,
Jackman, R
,
Price, R
,
Foord, J
التنسيق:
Journal article
منشور في:
1989
المقتنيات
الوصف
إصدارات أخرى (1)
مواد مشابهة
عرض للأخصائي
الوصف
الملخص:
مواد مشابهة
Adsorption, etching and photo-induced reactions at the Si(100)-CCl 4 interface
حسب: French, C, وآخرون
منشور في: (1989)
REACTION-MECHANISMS FOR THE PHOTON-ENHANCED ETCHING OF SEMICONDUCTORS - AN INVESTIGATION OF THE UV-STIMULATED INTERACTION OF CHLORINE WITH SI(100)
حسب: Jackman, R, وآخرون
منشور في: (1986)
CHEMICAL PRECURSORS FOR GAAS ETCHING WITH LOW-ENERGY ION-BEAMS - CHLORINE ADSORPTION ON GAAS(100)
حسب: Jackman, R, وآخرون
منشور في: (1991)
Surface studies of the interaction of Cl2 with InP(100)(4 × 2); an investigation of adsorption, thermal etching and ion beam assisted processes
حسب: Murrell, A, وآخرون
منشور في: (1990)
SURFACE STUDIES OF THE INTERACTION OF CL-2 WITH INP(100)(4X2) - AN INVESTIGATION OF ADSORPTION, THERMAL ETCHING AND ION-BEAM ASSISTED PROCESSES
حسب: Murrell, A, وآخرون
منشور في: (1990)